DE 三軸單面拋光機(研磨拋光機/自動化機械 設備-製造商)
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產品功能： 本設備主要用於壓電晶體、化合物半導體、光學玻璃、陶瓷片、金屬材料及其他硬脆性材料的高精度、高效率玻璃拋光用途 -
產品優點： 上下定盤平坦度公差為±0.01mm。可使平坦度均勻性佳，技術領 先業界設備。上下定盤使用特殊鋼材製作而成，抗壓能力及抗拉強度特高，充分減少使用後變形的情況。設備皆自行研發，故可達客製化效果。人機操作介面便於人員操控設定，可依客戶需求增加設定功能。自動控管循環系統，使研磨液反覆回流攪拌桶，降低Slurry使用成本。壓力控制採用電空比例閥及迴路裝置，可確保拋光壓力的穩定度。
詢價數量：
型式規格
DE-1200
機台型式
標準機型
基板尺寸
Φ480mm
上研磨盤直徑
Φ500mm
上載盤數量
3個
下載盤直徑
Φ1200mm
加壓壓力
30kg~200kg
研磨盤速度
60 rpm
拋光馬力
22KW
電 源
3Φ4W AC380V
50/60Hz
50/60Hz
設備尺寸
L1810*W1840*
H2750(mm)
H2750(mm)
重量
4000Kg
總耗電量
55KVA
耗風量
150 L/ cycle
產品規格 /
· 主體機座：SPCC鋼板焊接，粉體烤漆。
· 下拋光盤: 特殊鋼材製造， 平面度±0.01mm。
· 回收水槽：SUS304，透明PVC。
· 回收排放系統：可程式控制，自動切換回收排放。
· PUMP系統：SUS304、具攪拌模組、PUMP模組各一。
· 下拋光盤: 特殊鋼材製造， 平面度±0.01mm。
· 回收水槽：SUS304，透明PVC。
· 回收排放系統：可程式控制，自動切換回收排放。
· PUMP系統：SUS304、具攪拌模組、PUMP模組各一。
產品功能 /
．設備用途：本設備主要用於壓電晶體、化合物半導體、光學玻璃、陶瓷片、
金屬材料及其他硬脆性材料的高精度、高效率玻璃拋光用途。
金屬材料及其他硬脆性材料的高精度、高效率玻璃拋光用途。
產品優點 /
．上下定盤平坦度公差為±0.01mm。可使平坦度均勻性佳，技術領 先業界設備。
．上下定盤使用特殊鋼材製作而成，抗壓能力及抗拉強度特高，充分減少使用後變形的情況。
．設備皆自行研發，故可達客製化效果。
．人機操作介面便於人員操控設定，可依客戶需求增加設定功能。
．自動控管循環系統，使研磨液反覆回流攪拌桶，降低Slurry使用成本。
．壓力控制採用電空比例閥及迴路裝置，可確保拋光壓力的穩定度。
．上下定盤使用特殊鋼材製作而成，抗壓能力及抗拉強度特高，充分減少使用後變形的情況。
．設備皆自行研發，故可達客製化效果。
．人機操作介面便於人員操控設定，可依客戶需求增加設定功能。
．自動控管循環系統，使研磨液反覆回流攪拌桶，降低Slurry使用成本。
．壓力控制採用電空比例閥及迴路裝置，可確保拋光壓力的穩定度。