DE 三軸單面拋光機
  • 產品功能:本設備主要用於壓電晶體、化合物半導體、光學玻璃、陶瓷片、金屬材料及其他硬脆性材料的高精度、高效率玻璃拋光用途
  • 產品優點:上下定盤平坦度公差為±0.01mm。可使平坦度均勻性佳,技術領  先業界設備。上下定盤使用特殊鋼材製作而成,抗壓能力及抗拉強度特高,充分減少使用後變形的情況。設備皆自行研發,故可達客製化效果。人機操作介面便於人員操控設定,可依客戶需求增加設定功能。自動控管循環系統,使研磨液反覆回流攪拌桶,降低Slurry使用成本。壓力控制採用電空比例閥及迴路裝置,可確保拋光壓力的穩定度。
詢價數量:
型式規格
DE-1200
機台型式
標準機型
基板尺寸
Φ480mm
上研磨盤直徑
Φ500mm
上載盤數量
3個
下載盤直徑
Φ1200mm
加壓壓力
30kg~200kg
研磨盤速度
60 rpm
拋光馬力
22KW
電  源
3Φ4W AC380V
50/60Hz
設備尺寸
L1810*W1840*
H2750(mm)
重量
4000Kg
總耗電量
55KVA
耗風量
150 L/ cycle
 
 產品規格 /
 · 主體機座:SPCC鋼板焊接,粉體烤漆。
 · 下拋光盤: 特殊鋼材製造, 平面度±0.01mm。
 · 回收水槽:SUS304,透明PVC。
 · 回收排放系統:可程式控制,自動切換回收排放。
 · PUMP系統:SUS304、具攪拌模組、PUMP模組各一。
 產品功能 /
.設備用途:本設備主要用於壓電晶體、化合物半導體、光學玻璃、陶瓷片、
金屬材料及其他硬脆性材料的高精度、高效率玻璃拋光用途。
 產品優點 /
.上下定盤平坦度公差為±0.01mm。可使平坦度均勻性佳,技術領  先業界設備。
.上下定盤使用特殊鋼材製作而成,抗壓能力及抗拉強度特高,充分減少使用後變形的情況。
.設備皆自行研發,故可達客製化效果。
.人機操作介面便於人員操控設定,可依客戶需求增加設定功能。
.自動控管循環系統,使研磨液反覆回流攪拌桶,降低Slurry使用成本。
.壓力控制採用電空比例閥及迴路裝置,可確保拋光壓力的穩定度。
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